PROC.CLEANER UNIVERSAL,10
SAPHIRA® PROCESSOR CLEANER UNIVERSAL применяется для тщательной очистки
проявочных машин аналоговых и CtP термальных пластин.
Концентрат очистителя разбавляется водой в соотношении 1:5 – 1:9, в зависимости от
степени загрязнения процессора
Раствор заливается в резервуар проявителя
Включается нагрев до 30°C и циркуляция на 20-30 минут
Раствор сливается, и процессор несколько раз промывается водой.
Для очистки труднодоступных участков можно использовать концентрат очистителя:
Концентрат очистителя с помощью кисти нанести на труднодоступные места, требующие
очистки, на валики и оставить для воздействия на 5 минут и после этого тщательно смыть
губкой, увлажненной водой.